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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

高橋清 [ほか] 編著. -- 工業調査会, 1994. <BB00034904>
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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

高橋清 [ほか] 編著. -- 工業調査会, 1994. <BB00034904>
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所蔵一覧 1件～2件（全2件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 書庫5層 549.8||H 001454065 書架 0件
0002 図書館 書庫5層 549.8||H 002702223 書架 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 書庫5層
請求記号 549.8||H
資料ID 001454065
状態 書架
返却予定日
予約 0件
No. 0002
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 書庫5層
請求記号 549.8||H
資料ID 002702223
状態 書架
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著
ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ・ ムソンショウカ オ ジツゲン
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1994.3
形態事項 266p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4769311222
注記 執筆者: 西澤潤一ほか
注記 章末: 参考文献
学情ID BN10527941
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 高橋, 清 (1934-)||タカハシ, キヨシ <AU00008390> [ほか]編著
著者標目リンク 西澤, 潤一(1926-2018)||ニシザワ, ジュンイチ <AU00001397>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC8:549
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
件名標目等 光化学||コウカガク
件名標目等 電子部品||デンシブヒン
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