愛知工業大学附属図書館

イオンビームによる薄膜設計

山田公著. -- 共立出版, 1991. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 15). <BB00034197>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 2階 549||Y 002735975 書架 0件
0002 図書館 書庫5層 549||Y 001504596 書架 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階
請求記号 549||Y
資料ID 002735975
状態 書架
返却予定日
予約 0件
No. 0002
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 書庫5層
請求記号 549||Y
資料ID 001504596
状態 書架
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 イオンビームによる薄膜設計 / 山田公著
イオン ビーム ニ ヨル ハクマク セッケイ
出版・頒布事項 東京 : 共立出版 , 1991.9
形態事項 v,114p ; 19cm
巻号情報
ISBN 4320085159
書誌構造リンク 表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編||ヒョウメン ハクマク ブンシ セッケイ シリーズ <BB00127076> 15//a
注記 叢書の編者:日本表面科学会
注記 各章末:文献
学情ID BN06866284
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山田, 公
ヤマダ, イサオ <>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC8:549
件名標目等 薄膜||ハクマク
件名標目等 イオンビーム||イオンビーム
件名標目等 薄膜||ハクマク