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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

河合晃監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2024. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 840 . エレクトロニクスシリーズ). <BB00274285>
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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

河合晃監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2024. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 840 . エレクトロニクスシリーズ). <BB00274285>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 2階 549.7||K 004781712 書架 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階
請求記号 549.7||K
資料ID 004781712
状態 書架
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 / 河合晃監修
サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
版事項 普及版
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2024.8
形態事項 viii, 320p : 挿図 ; 26cm
巻号情報
ISBN 9784781317748
書誌構造リンク CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BB00156350> 840 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ//a
その他の標題 標題紙タイトル:Advanced technologies for functional resist materials and process optimization
注記 2017年刊の普及版
注記 文献: 章末
注記 背に「TL840」とあり
注記 奥付・背・裏表紙に「B1438」とあり
学情ID BD08208554
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 河合, 晃||カワイ, アキラ <AU00107024>
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
分類標目 電子工学 NDC10:549.7
分類標目 科学技術 NDLC:PA441
分類標目 高分子化学工業 NDC10:578.4
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイ ジュシ
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイジュシ
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
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