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フォトレジスト材料開発の新展開

上田充監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2015. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ). <BB00233166>
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フォトレジスト材料開発の新展開

上田充監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2015. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ). <BB00233166>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 2階 549.7||U 004293429 書架 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階
請求記号 549.7||U
資料ID 004293429
状態 書架
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修
フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
版事項 普及版
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2015.11
形態事項 vii, 317p : 挿図 ; 26cm
巻号情報
ISBN 9784781310398
書誌構造リンク CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BB00156350> 562 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ//aa
その他の標題 標題紙タイトル:New trends of photoresists
注記 2009年刊の普及版
注記 文献: 各章末
学情ID BB19937937
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 上田, 充(1948-)||ウエダ, ミツル <AU00019014>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイジュシ
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