愛知工業大学附属図書館

最先端高密度配線銅めっき技術

半導体新技術研究会編 ; 早瀬仁則監修. -- シーエムシー出版, 2009. <BB00179775>
書誌URL:

所蔵一覧 1件~1件(全1件)

No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 2階 549.8||H 003760832 書架 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階
請求記号 549.8||H
資料ID 003760832
状態 書架
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 最先端高密度配線銅めっき技術 / 半導体新技術研究会編 ; 早瀬仁則監修
サイセンタン コウミツド ハイセン ドウメッキ ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2009.11
形態事項 vi, 273p : 挿図 ; 27cm
巻号情報
ISBN 9784781301433
その他の標題 標題紙タイトル:Advanced copper plating wiring technology
その他の標題 その他のタイトル:エレクトロニクスシリーズ
エレクトロニクス シリーズ
注記 その他のタイトルはジャケットによる
学情ID BB00848183
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 半導体新技術研究会
ハンドウタイ シンギジュツ ケンキュウカイ <>
著者標目リンク 早瀬, 仁則
ハヤセ, マサノリ <>
分類標目 電子工学 NDC9:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
件名標目等 めっき||メッキ