愛知工業大学附属図書館

薄膜化技術

和佐清孝, 早川茂著. -- 第3版. -- 共立出版, 2002. <BB00088085>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 2階 549.8||W 003220571 書架 0件
0002 図書館 書庫5層 549.8||W 003175924 書架 0件
0003 図書館 書庫5層 549.8||W 003209038 書架 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階
請求記号 549.8||W
資料ID 003220571
状態 書架
返却予定日
予約 0件
No. 0002
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 書庫5層
請求記号 549.8||W
資料ID 003175924
状態 書架
返却予定日
予約 0件
No. 0003
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 書庫5層
請求記号 549.8||W
資料ID 003209038
状態 書架
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 薄膜化技術 / 和佐清孝, 早川茂著
ハクマクカ ギジュツ
版事項 第3版
出版・頒布事項 東京 : 共立出版 , 2002.6
形態事項 viii, 316p ; 22cm
巻号情報
ISBN 4320086139
注記 折り込図1枚: 元素周期表 (蒸気圧・スパッタ率・薄膜形成法)
学情ID BA57243403
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 和佐, 清孝
ワサ, キヨタカ <>
著者標目リンク 早川, 茂
ハヤカワ, シゲル <>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC9:549.8
件名標目等 薄膜||ハクマク