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愛知工業大学附属図書館
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薄膜化技術
和佐清孝, 早川茂著. -- 第3版. -- 共立出版, 2002. <BB00088085>
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薄膜化技術
和佐清孝, 早川茂著. -- 第3版. -- 共立出版, 2002. <BB00088085>
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巻号
所蔵館
配置場所
請求記号
資料ID
状態
返却予定日
予約
0001
図書館
2階
549.8||W
003220571
書架
0件
0002
図書館
書庫5層
549.8||W
003175924
書架
0件
0003
図書館
書庫5層
549.8||W
003209038
書架
0件
No.
0001
巻号
所蔵館
図書館
配置場所
2階
請求記号
549.8||W
資料ID
003220571
状態
書架
返却予定日
予約
0件
No.
0002
巻号
所蔵館
図書館
配置場所
書庫5層
請求記号
549.8||W
資料ID
003175924
状態
書架
返却予定日
予約
0件
No.
0003
巻号
所蔵館
図書館
配置場所
書庫5層
請求記号
549.8||W
資料ID
003209038
状態
書架
返却予定日
予約
0件
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書誌詳細
標題および責任表示
薄膜化技術 / 和佐清孝, 早川茂著
ハクマクカ ギジュツ
版事項
第3版
出版・頒布事項
東京 : 共立出版 , 2002.6
形態事項
viii, 316p ; 22cm
巻号情報
ISBN
4320086139
注記
折り込図1枚: 元素周期表 (蒸気圧・スパッタ率・薄膜形成法)
学情ID
BA57243403
本文言語コード
日本語
著者標目リンク
和佐, 清孝
ワサ, キヨタカ <>
著者標目リンク
早川, 茂
ハヤカワ, シゲル <>
分類標目
電子工学 NDC8:549.8
分類標目
電子工学 NDC9:549.8
件名標目等
薄膜||ハクマク
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