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Electron-beam, x-ray & ion-beam techniques for submicrometer lithographies V : 11-12 March 1986, Santa Clara, California

Phillip D. Blais, chairman/editor ; pbk.. -- SPIE--the International Society for Optical Engineering, 1986. -- (Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 632). <BB00056054>
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Electron-beam, x-ray & ion-beam techniques for submicrometer lithographies V : 11-12 March 1986, Santa Clara, California

Phillip D. Blais, chairman/editor ; pbk.. -- SPIE--the International Society for Optical Engineering, 1986. -- (Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 632). <BB00056054>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 保存書庫 425||S 001968775 書架 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 保存書庫
請求記号 425||S
資料ID 001968775
状態 書架
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 Electron-beam, x-ray & ion-beam techniques for submicrometer lithographies V : 11-12 March 1986, Santa Clara, California / Phillip D. Blais, chairman/editor
出版・頒布事項 Bellingham, Wash., USA : SPIE--the International Society for Optical Engineering , c1986
形態事項 vi, 272 p. : ill. ; 28 cm
巻号情報
巻次等 pbk.
ISBN 089252667X
書誌構造リンク Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering <BB00194398> v. 632//a
その他の標題 異なりアクセスタイトル:Electron-beam, x-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies V
注記 Includes bibliographies and index
学情ID BA24022792
本文言語コード 英語
著者標目リンク Blais, Phillip D. <>
著者標目リンク Society of Photo-optical Instrumentation Engineers <AU00049787>
分類標目 LCC:TK7874
分類標目 DC19:621.3815/2
件名標目等 Lithography, Electron beam -- Congresses
件名標目等 X-ray lithography -- Congresses
件名標目等 Ion beam lithography -- Congresses
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