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Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology : submicrometer lithographies VIII : 1-3 March 1989, San Jose, California

Arnold W. Yanof, chair/editor ; sponsored by SPIE--the International Society for Optical Engineering. -- SPIE, 1989. -- (Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 1089). <BB00056891>
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Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology : submicrometer lithographies VIII : 1-3 March 1989, San Jose, California

Arnold W. Yanof, chair/editor ; sponsored by SPIE--the International Society for Optical Engineering. -- SPIE, 1989. -- (Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 1089). <BB00056891>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 保存書庫 425||S 001971365 書架 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 保存書庫
請求記号 425||S
資料ID 001971365
状態 書架
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology : submicrometer lithographies VIII : 1-3 March 1989, San Jose, California / Arnold W. Yanof, chair/editor ; sponsored by SPIE--the International Society for Optical Engineering
出版・頒布事項 Bellingham, Wash., USA : SPIE , c1989
形態事項 viii, 388 p. : ill. ; 28 cm
巻号情報
ISBN 0819401242
書誌構造リンク Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering <BB00194398> v. 1089//a
注記 Proceedings of the SPIE Symposium on Microlithography
注記 Includes bibliographical references
学情ID BA12683130
本文言語コード 英語
著者標目リンク Yanof, Arnold W. <>
著者標目リンク Society of Photo-optical Instrumentation Engineers <AU00049787>
著者標目リンク SPIE Symposium on Microlithography <> (1989 : San Jose, Calif.)
分類標目 LCC:TK7874
分類標目 DC20:621.381/52
件名標目等 Lithography, Electron beam -- Congresses
件名標目等 X-ray lithography -- Congresses
件名標目等 Ion beam lithography -- Congresses
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