愛知工業大学附属図書館

Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology : submicrometer lithographies VII : 2-4 March 1988, Santa Clara, California

Arnold W. Yanof, chair/editor ; sponsored by SPIE-the International Society for Optical Engineering ; pbk.. -- The Society, 1988. -- (Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 923). <BB00005665>
書誌URL:

所蔵一覧 1件~1件(全1件)

No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 保存書庫 425||S 001968866 書架 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 保存書庫
請求記号 425||S
資料ID 001968866
状態 書架
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology : submicrometer lithographies VII : 2-4 March 1988, Santa Clara, California / Arnold W. Yanof, chair/editor ; sponsored by SPIE-the International Society for Optical Engineering
出版・頒布事項 Bellingham, Wash., USA : The Society , c1988
形態事項 vi, 307 p. : ill. ; 28 cm
巻号情報
巻次等 pbk.
ISBN 089252958X
書誌構造リンク Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering <BB00194398> v. 923//a
注記 Includes bibliographies and index
学情ID BA07915758
本文言語コード 英語
著者標目リンク Yanof, Arnold W. <>
著者標目リンク Society of Photo-optical Instrumentation Engineers <AU00049787>
分類標目 LCC:TK7874
分類標目 DC19:621.381/73
件名標目等 Lithography, Electron beam -- Congresses
件名標目等 X-ray lithography -- Congresses
件名標目等 Ion beam lithography -- Congresses